《超大规模集成电路先进光刻理论与应用》经典读后感10篇

　　《超大规模集成电路先进光刻理论与应用》是一本由韦亚一著作，科学出版社出版的精装图书，本书定价：CNY 260.00，页数：558，文章吧小编精心整理的一些读者的读后感，希望对大家能有帮助。

　　《超大规模集成电路先进光刻理论与应用》读后感(一)：如果你想成为技术大牛，那么读这本书吧~

　　这本书出版于2016年6月，是目前国内光刻方面最前沿，最全面也是最系统的书籍，该书覆盖了现代光刻的各个方面，包括设备、材料、仿真（计算光刻）和工艺。光刻是集成电路制造中的关键技术，也是所有微纳器件制备过程中必不可少的一道工艺。

　　该书的作者长期从事半导体光刻技术、材料和专用设备研究。在该书中，对国外广科研究和产业化的最新结果进行了归纳、总结。包含了作者多年来研究先进光刻工艺的经验和体会。根据这些经验和体会总结出来一个先进光刻工艺的方法论，即：光刻技术的研发进入了一个以计算光刻为中心的时代；光刻技术研发的进度是以计算光刻和临近效应修正学习循环来引导和驱动的。

　　这本书对于专业从事芯片制造和半导体工艺的人士来说，很有参考和阅读的必要。当然，对于想要和即将从事这方面的学生和相关人士也是入门光刻行业的首选学习书籍。与目前国内的教材和其他同类书籍相比，该书更全面和前沿。强烈推荐！！！

　　《超大规模集成电路先进光刻理论与应用》读后感(二)：一本集光刻理论、设备与先进工艺为一体的专业图书

　　由科学出版社出版，中国科学院微电子研究所韦亚一研究员所著的《超大规模集成电路先进光刻理论与应用》是一部关于先进光刻工艺和理论的著作，该书从光刻设备、材料、仿真和工艺等角度对业界领先的先进光刻进行了系统总结和理论概述，收录了大量先进光刻相关的实际工艺图像，编制了数十个详实的表格，对指导先进光刻工艺研发、提供光刻解决方案具有重要的意义和价值。实现光刻图形极限分辨率是先进光刻的必然要求，该书通过详实的理论体系，分析了影响光刻质量的软硬件因素，构建了比较完备的先进光刻研发和质量控制体系，是一本不可多得的面向28纳米及以下技术节点的光刻理论与工艺紧密结合的著作。该书对集成电路制造领域的从业工程师、管理者具有非常好的指导价值，对集成电路和微电子领域的普通从业者、研究生、教师等也具有非常高的理论和工艺参考价值。

　　《超大规模集成电路先进光刻理论与应用》读后感(三)：认识真正的光刻技术

　　光刻一直是集成电路制造工艺中极其重要的一步，是保证微电子产业按照摩尔定律的驱动继续发展的关键。

　　但真正的光刻技术不只有曾经在半导体制造技术课堂上面学到的掩膜、投影、曝光等步骤，当我对光刻技术有了更进一步的接触和了解之后，我才发现实际的光刻工艺需要考虑的更多更复杂，然而国内市面上并没有一本图书可以将这些全部介绍，直至韦亚一老师的《超大规模集成电路先进光刻理论与应用》问世。

　　我目前正在阅读这本书，该书结合了很多国内外的先进研究，将光刻这门专而精的边缘化技术，从工艺、设备、材料到光刻优化和先进光刻技术都一一具体介绍，对于从事光刻研究的学生和技术人员是很好的技术参考书，也有助于国内微电子领域人员增进对光刻技术的了解和认知，推荐阅读。